近日，公司的碳化硅自动光学位错微管检测设备SICD系列交付客户，可用于碳化硅衬底的位错及微管缺陷检测。据优睿谱总经理唐德明博士介绍，较国内同类功能的设备，SICD设备在检测速度上提升了数倍
优睿谱成立于2021年，致力于打造高品质的半导体前道量测设备。
半导体量测设备主要用于半导体制造工艺中缺陷检测和参数测量，广泛用于硅片制造、芯片制造、先进封装领域，如关键尺寸测量设备、薄膜厚度测量设备、缺陷检测设备等。前道制程量测设备已超过百亿美元市场规模。而更先进的制程工艺也扩大了量测设备的需求，给量测设备带来更多新的市场空间。
优睿谱自主开发了半导体专用傅里叶变换红外光谱测量设备，可以用来测量外延层厚度及均匀性、元素浓度、硅料杂质含量等。
产品方面，优睿谱FTIR设备Eos200Lite可用于碳化硅外延片外延层厚度及均匀性测量，目前已获得多家头部碳化硅基外延厂订单；Eos200/200+, Eos300/300+用于硅基外延片外延层厚度和元素浓度测量设备也已获得多家头部硅基外延厂和FAB厂订单。
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